濺射靶材的主要應用
濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
分類 根據(jù)形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶 根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據(jù)應用不同又分為半導體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據(jù)應用領(lǐng)域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材 磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。 磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
磁控濺射鍍膜靶材：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 ，硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
高純高密度濺射靶材有：
濺射靶材（純度：99.9%-99.999%）
1. 金屬靶材：
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等金屬濺射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材。
3.合金靶材
鎳鉻合金靶、鎳釩合金靶、鋁硅合金靶、鎳銅合金靶、鈦鋁合金、鎳釩合金靶、硼鐵合金靶、硅鐵合金靶等高純度合金濺射靶材。
鈦靶材的功能和特點誰知道 告訴下謝謝！！！！
北京泛德辰科技有限公司是北京中關(guān)村科技園區(qū)專門從事新材料研發(fā)、生產(chǎn)和全球銷售的高科技綜合性公司，是經(jīng)北京市科委認定的高新技術(shù)企業(yè)。由資深專家領(lǐng)導的高素質(zhì)的研發(fā)團隊、富有跨國公司管理經(jīng)驗的管理人員領(lǐng)導的營銷團隊和高級財務經(jīng)理團隊組成的一流專業(yè)人才是公司發(fā)展的堅強后盾。我公司通過熱（冷）等靜壓方法、金屬冶煉、粉末冶金法專業(yè)生產(chǎn)各種磁控濺射靶材：鉻管靶、鋁管靶、銅管靶、單晶硅基片，氧化硅基片，氧化鋁基片等。
主要根據(jù)客戶的具體要求加工各種規(guī)格，各種成分的靶材，我們的產(chǎn)品質(zhì)量更高，價格更低，交貨時間短，與國內(nèi)多家鍍膜廠，鍍膜機生產(chǎn)廠，科研機構(gòu)，國內(nèi)外大學保持良好的業(yè)務往來，目前我公司正以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、系統(tǒng)的服務和科學的管理為客戶提供共同成長、發(fā)展的空間。歡迎各界人士前來洽談業(yè)務，請告知我們您的具體需求，我們會給您我們同行業(yè)內(nèi)更優(yōu)惠的價格和更好的服務！
ito靶材是什么？
ito靶材屬于陶瓷靶材的一種，近些年來人們對于電腦、電視、手機顯示屏的追求越發(fā)明顯，由此也帶動了ito靶材的市場需求。但目前ito技術(shù)發(fā)展還不夠先進，發(fā)展空間巨大。
ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè)，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)、場發(fā)射顯示器(FED)、電致有機發(fā)光平面顯示器(OELD)等離子顯示器(PDP)等。
擴展資料：
國內(nèi)對ITO靶材的需求量大幅增長，國內(nèi)生產(chǎn)的ITO靶材密度低，無法滿足高端平板顯示器行業(yè)對于靶材質(zhì)量的要求．僅僅部分用于低端液晶產(chǎn)品中。目前世界上只有日本、美國、德國等少數(shù)發(fā)達國家和地區(qū)能生產(chǎn)ITO靶材，而我國平板顯示器產(chǎn)業(yè)所需求的ITO靶材的98％依賴于進口，因此，研制開發(fā)ITO靶材生產(chǎn)技術(shù)是現(xiàn)有In生產(chǎn)企業(yè)開發(fā)In深加工技術(shù)的首選目標。
國外ITO靶材的生產(chǎn)工藝和技術(shù)設(shè)備已較為成熟和穩(wěn)定。其主要制備方法有熱等靜壓法、熱壓法和燒結(jié)法。
靶材是什么
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
材質(zhì)分類：
⒈金屬靶材
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
⒉陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
⒊合金靶材
鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、 鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。
百度百科http://baike.baidu.com/view/601854.htm
靶材的運用原理
靶材運用:荷能粒子(例如氬離子)轟擊固體表面,引起表面各種粒子,如原子、分子或團束從該物體表面逸出的現(xiàn)象稱“濺射”.在磁控濺射鍍膜中,通常是應用氬氣電離產(chǎn)生的正離子轟擊固體(靶),濺出的中性原子沉積到基片(工件)上,形成膜層,磁控濺射鍍膜具有“低溫”和“快速”兩大特點. QQ:10213735
靶材的作用和用途?
靶材就是目標材料.用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應.用于物理鍍膜中的濺鍍,主要有金屬靶材和陶瓷靶材.不知道你想問的是哪個領(lǐng)域使用的.
什么叫靶材?電容觸摸屏的靶材主要是什么?
電容觸摸屏用的鍍膜基板是用磁控濺射工藝制造的. 在磁控濺射制程中用到的鍍膜材料稱為靶材. 用作電容觸摸屏的靶材一般有:InSn,Si,Ag,Al,Mo等
靶材的介紹
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源.簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應.例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等.更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等).
靶材參加什么樣的展會好推廣自己的產(chǎn)品呢？
【靶材的定義】
靶材的定義：
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。中國最專業(yè)的展會平臺——808街。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜…鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
【靶材的種類】
靶材的種類：
1： 金屬靶材
2：陶瓷靶材
3：合金靶材
【磁控濺射靶材種類】：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 。
硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
【靶材的發(fā)展】
各種類型 的濺射薄膜材料 在半導體集成 電路 (VLSI ) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀 90年代 以來，濺 射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發(fā)展的需求。
【靶材的制作工藝】
磁控濺射靶材
1：1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，中國最專業(yè)的展會、會議、活動發(fā)布平臺——808街。在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
【應用領(lǐng)域】
1：微電子領(lǐng)域
2：平面顯示器用靶材
3：存儲技術(shù)用靶材
所以靶材其實就是新興的產(chǎn)業(yè)，那么參加的展會應該就是什么科學展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展這樣之類的，也可以是什么材料機械展 之類的。
你也可以在不是很確定參加什么會展的時候，就可以再問一下展會的前期工作人員哦。
以上內(nèi)容由808街負責整理并發(fā)布。
問下鍺這種物質(zhì)是什么?
不能完全確認。
鍺曾經(jīng)在人參等高級藥材中發(fā)現(xiàn)，而且這些藥材都有極高的保健、藥用價值，因此有的人認為鍺有保健價值。但針對鍺的科學定論還沒有，也就是不可信。
鍺的基本常識介紹鍺是1886年文克勒用光譜分析的方法發(fā)現(xiàn)的，但 是它“失業(yè)”了五十多年。化學家哥德斯密特曾經(jīng)感慨地說過這樣的話：哈特萊煤礦的煤灰里有千分之十六的氧化鍺，這種煤灰1噸就可以生產(chǎn)16公斤的氧化鍺。假如這是金塊的話，那么運送車輛就得嚴密戒備。可是鍺卻是連小偷也不注意的東西。直到1942年，特別是最近以來，人們發(fā)現(xiàn)用鍺可以制造晶體管來代替電子管，用作雷達和電子計算機的主要元件，鍺才變?yōu)橹匾募舛瞬牧稀！ ?鍺在地殼中的含量為1．5％，比金、銀、碘等常見的元素多得多。不過，它太分散了，屬于稀散稀有金屬。在大自然中，沒有鍺礦。在煤礦中，大約含有十萬分之一左右的鍺，也就是說，在1n電煤中，大約含l0克的鍺。然而，在煙道灰中卻含有千分之一，甚至百分之一的鍺。含鍺的礦物有硫鍺鐵礦，淺色閃鋅礦等，其中鍺都以雜質(zhì)存在。 鍺是一種淺灰色的金屬。據(jù)x光的研究證明；鍺晶體里的原子排列，與金剛石相同。所以它硬而脆。 鍺用來制造晶體整流器(二極管)、晶體放大器(三極管)、檢波器等，比通常的電子管壽命長、體積小、耐震、耐撞，所以被廣泛地用于電子計算機、雷達設(shè)備、遙控儀器上。 用作半導體材料的鍺，必須非常純，含鍺要在 99．999999％以上(簡稱八個九)。現(xiàn)在，人們用區(qū)域熔煉法，已經(jīng)制出了十一個九以上的純鍺，也就是說，在一千億個原子中，只有一個雜質(zhì)原子。現(xiàn)在，全世界鍺的年產(chǎn)量只有幾十噸。你別以為這個數(shù)字很小，要知道每個半導體器件所需要的鍺，只有極少極少的一點兒，幾十噸的鍺，可以制成幾十億個半導體器件 鍺的電阻在溫度改變的時候，會立即發(fā)生靈敏的變化，所以鍺還被用來制造熱敏電阻，來測定溫度。這種熱敏電阻，甚至可以覺察到1公里以外人體所射出的紅外線。這種熱敏電阻還被廣泛地應用于尋找地下水，尋找千米以外的飛行目標，因為它可以測出萬分之五攝氏度的微小變化。 鍺可以用來制造光電池。光照射到經(jīng)過特殊處理的半導體上，能夠不斷地放出電來。光照越強，發(fā)電能力越大。鍺光電池把光能直接變成電能，既不需要鍺燃料，又不需要成套設(shè)備，為我們從太陽光那里取得無窮無盡的廉價電力開辟了新途徑。醫(yī)學上，由于鍺能刺激紅血球的生成，所以鍺的化合物可用來治療貧血病與嗜眠癥。鍺亦為生命必需微量元素。有機鍺在人體中有很強的脫氫能力，可防止細胞衰老，增強人體免疫力。鍺還具有抗腫瘤、抗炎癥、抗病毒等生理作用。據(jù)日本學者報道，有機鍺是一種廣譜抗癌藥，治療轉(zhuǎn)移性肺癌、肝癌、生殖系統(tǒng)癌和白血病都有效。據(jù)瑞典和美國報道，有機鍺治療惡性淋巴癌、卵巢癌、子宮頸癌、大腸癌、前列腺癌和黑色素癌均有效。因此，有機鍺被譽為“人類健康的保護神”。