誰知道靶材是什么東西?
簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料.例如:蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜…鋁膜等.更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等).
靶材是什么
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
材質分類：
⒈金屬靶材
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
⒉陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
⒊合金靶材
鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、 鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。
百度百科http://baike.baidu.com/view/601854.htm
靶材的介紹
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源.簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應.例如:蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等.更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等).
什么叫靶材?電容觸摸屏的靶材主要是什么?
電容觸摸屏用的鍍膜基板是用磁控濺射工藝制造的. 在磁控濺射制程中用到的鍍膜材料稱為靶材. 用作電容觸摸屏的靶材一般有:InSn,Si,Ag,Al,Mo等
ito靶材是什么？
ito靶材屬于陶瓷靶材的一種，近些年來人們對于電腦、電視、手機顯示屏的追求越發明顯，由此也帶動了ito靶材的市場需求。但目前ito技術發展還不夠先進，發展空間巨大。
ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、電致有機發光平面顯示器(OELD)等離子顯示器(PDP)等。
擴展資料：
國內對ITO靶材的需求量大幅增長，國內生產的ITO靶材密度低，無法滿足高端平板顯示器行業對于靶材質量的要求．僅僅部分用于低端液晶產品中。目前世界上只有日本、美國、德國等少數發達國家和地區能生產ITO靶材，而我國平板顯示器產業所需求的ITO靶材的98％依賴于進口，因此，研制開發ITO靶材生產技術是現有In生產企業開發In深加工技術的首選目標。
國外ITO靶材的生產工藝和技術設備已較為成熟和穩定。其主要制備方法有熱等靜壓法、熱壓法和燒結法。
靶材的作用和用途?
靶材就是目標材料.用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應.用于物理鍍膜中的濺鍍,主要有金屬靶材和陶瓷靶材.不知道你想問的是哪個領域使用的.
鈦靶材是什么
鈦靶材就是以鈦為靶材形成有鈦屬性的鍍膜
你能不能給我普及一下什么是ITO靶材呢?我想弄懂它的生產需要些什么、為什么需要,以及….
ITO靶材就是氧化銦錫合成陶瓷靶材,用于做導電薄膜材料!
緊急,高速旋轉X光靶材是什么材料做的?希望有朋友告訴我下,謝謝!
X射線靶材 此靶材料由鈹,鎢復合材料,主要用于醫療行業! 由于鈹材料透過性好,也用核反應堆的輻射! 產品材料采用進口原料,質量穩定!
靶材參加什么樣的展會好推廣自己的產品呢？
【靶材的定義】
靶材的定義：
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。中國最專業的展會平臺——808街。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜…鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
【靶材的種類】
靶材的種類：
1： 金屬靶材
2：陶瓷靶材
3：合金靶材
【磁控濺射靶材種類】：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 。
硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
【靶材的發展】
各種類型 的濺射薄膜材料 在半導體集成 電路 (VLSI ) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀 90年代 以來，濺 射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發展的需求。
【靶材的制作工藝】
磁控濺射靶材
1：1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，中國最專業的展會、會議、活動發布平臺——808街。在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
【應用領域】
1：微電子領域
2：平面顯示器用靶材
3：存儲技術用靶材
所以靶材其實就是新興的產業，那么參加的展會應該就是什么科學展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展這樣之類的，也可以是什么材料機械展 之類的。
你也可以在不是很確定參加什么會展的時候，就可以再問一下展會的前期工作人員哦。
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