請問生產(chǎn)去光刻膠清洗劑的廠家有哪些啊?國外較出名的有哪些啊?
深圳德同光電 國外比較出名的:PRS3000,PMR100,DTNS-T4000
如何有效去除光刻膠犧牲層
試著用Piranha,不過用這個液時要注意.
什么極易溶解未感光光刻膠
感光劑不足,或感光時間不足.另一個原因也可能是上膠后干燥不透. 1.低溫烘干不徹底,感光膠膜沒徹底干燥的話,顯影時就不好溶解掉,造成顯影不
請問在半導(dǎo)體工藝中,光刻后進行電鍍,電鍍后去除光刻膠后有一步lega treatment 什么意思?
在半導(dǎo)體工藝中,光課后進行電鍍電鍍后,去除光刻膠后有一步.
光刻膠是什么東西?
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料. 光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類.在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來,該涂層材料為正性光刻膠.如果曝光部分被保留下來,而未曝光被溶解,該涂層材料為負性光刻膠.按曝光光源和輻射源的不同,又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等.光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細微圖形加工作業(yè).光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜,品種規(guī)格較多,在電子工業(yè)集成電路的制造中,對所使用有嚴格的要求.
光刻膠~~光刻膠的概念是什么?
光刻膠
photoresist
又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增
感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液
體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化
反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合
性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當?shù)娜軇┨幚?，溶去可溶性?/p>
分，得到所需圖像（見圖光致抗蝕劑成像制版過程）。
光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制
版等過程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)
反應(yīng)機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照
后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之，對某些溶劑是不
可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這
種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的
電路圖形。基于感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為
三種類型。①光聚合型，采用烯類單體，在光作用下生
成自由基，自由基再進一步引發(fā)單體聚合，最后生成聚
合物，具有形成正像的特點。②光分解型，采用含有疊
氮醌類化合物的材料，經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由
油溶性變?yōu)樗苄?，可以制成正性膠。③光交聯(lián)型，采
用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其
分子中的雙鍵被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成
一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典
型的負性光刻膠。柯達公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。
感光樹脂在用近紫外光輻照成像時，光的波長會限
制分辨率（見感光材料）的提高。為進一步提高分辨率
以滿足超大規(guī)模集成電路工藝的要求，必須采用波長更
短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X 射線和深紫外
(＜250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠，X射線刻蝕
膠和深紫外線刻蝕膠，所刻蝕的線條可細至1□m以下。
http://www.adsonbbs.com/baike_detail.asp?id=68
光刻膠在接受一定波長的光或者射線時,會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子最外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵態(tài)時引起的。對于有機物，基態(tài)與激勵態(tài)的能量差為3~6eV，相當于該能量差的光(即波長為0.2~0.4μm的光)被有機物強烈吸收，使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵態(tài)?；瘜W(xué)鍵合在受到這種激勵時，或者分離或者改變鍵合對象，發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后，因與物質(zhì)具有的電子相互作用，能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中，因此生成激勵狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。
光刻膠產(chǎn)品中有沒有能抵抗氫氟酸腐蝕或溶解的呢?
當然有的,很多材料的刻蝕劑都是用HF,介紹一種正膠:X AR-P 3100/10,抗氫氟酸效果不錯.
光刻膠產(chǎn)品中有沒有能抵抗 70攝氏度40%質(zhì)量濃度的KOH溶液 腐蝕或溶解的呢?
當然有的,很多材料的刻蝕劑都是用HF,介紹一種正膠:X AR-P 3100/10,抗氫氟酸效果不錯. 人首先應(yīng)當遵從的,不是別人的意見,而是自己的良心.