硅片清洗劑,硅片清洗劑標準
如何清洗硅片 清洗方法 (一)RCA清洗: RCA 由Werner Kern 于1965年在N.J.Princeton 的RCA 實驗室首創, 并由此得名。RCA 清洗是一種典型的濕式化學清洗。RCA 清洗主要用于清除有機表面膜、粒子和金屬沾污。 1、顆粒的清洗 硅片表面的顆粒去除主要用APM ( 也稱為SC1) 清洗液(NH4OH + H2O2 + H2O) 來清洗。在APM 清洗液中,由于H2O2的作用,硅片表面有一層自然氧化膜(SiO2) , 呈親水性, 硅片表面和粒子之間可用清洗液浸透,… 閱讀更多 »硅片清洗劑,硅片清洗劑標準