工業(yè)氣體是什么？
工業(yè)氣體在國家標準《常用危險化學品的分類及標志》(GB13690-1992)中，通常被劃為第2類壓縮氣體和液化氣體。這類化學品系指壓縮、液化或加壓溶解的氣體。氣體經(jīng)加壓或降低溫度，可以使氣體分子間的距離大大縮小而被壓入鋼瓶中，這種氣體稱為壓縮氣體(亦稱為永久氣體， 如氧氣、氮氣、氬氣、氫氣等)。對壓縮氣體繼續(xù)加壓， 適當降溫，壓縮氣體就會變成液體的，稱為液化氣體(如液氯、 液氨、液體二氧化碳等)。此外，還有一種性質(zhì)極為不穩(wěn)定的氣體，加壓后需溶于溶劑中儲存在鋼瓶內(nèi)，這種氣體稱為溶解氣體(如溶解乙炔等)。
工業(yè)氣體按其化學性質(zhì)不同，可分為4 類：⑴劇毒氣體，具有極強毒性，侵入人體能引起中毒甚至死亡。如氯氣、氨氣等。⑵易燃氣體，具有易燃燒性和化學爆炸危險性，并有一定的毒性。如氫氣、乙炔等。⑶助燃氣體，具有助燃能力，但自身不燃燒，存在擴大火災 的危險性，如氧氣等。⑷不燃氣體，對人具有窒息性，性質(zhì)穩(wěn)定，不燃燒，如氮氣、二氧化碳和氬氣。國家標準GB13690-1992中，將上述4 種氣體分為3小類，即第2.1類易燃氣體、第2.2類不燃氣體(包括助燃氣體)、第2.3類有毒氣體
工業(yè)氣體按組份可分為單一品種氣體的工業(yè)純氣和二元或多元氣體的工業(yè)混合氣。
什么叫工業(yè)氣體
工業(yè)氣體:一種瓶裝壓縮液態(tài)氣體,在常溫常壓下呈氣態(tài),氣體種類有繁多,主要用于各種工業(yè)制造方面.
昆明氧氣有限公司怎么樣？
昆明氧氣有限公司是1985-06-01在云南省昆明市注冊成立的有限責任公司(自然人投資或控股)，注冊地址位于昆明市學府路730號。
昆明氧氣有限公司的統(tǒng)一社會信用代碼/注冊號是91530100216577378B，企業(yè)法人陳智，目前企業(yè)處于開業(yè)狀態(tài)。
昆明氧氣有限公司的經(jīng)營范圍是：工業(yè)氣體、醫(yī)用氣體、溶解乙炔的生產(chǎn)及銷售；二類醫(yī)用中心供氧、中心吸引系統(tǒng)、高純氣、混合氣、標準氣、無水空氣、稀有氣、特種氣、氣體包裝氣瓶及附件、液氧、液氮、液氬的銷售；氣瓶檢測、壓力容器氣密性檢測及技術服務；氣體管道工程安裝；普通貨運，危險貨物運輸（2類2項）（依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動）。在云南省，相近經(jīng)營范圍的公司總注冊資本為54323萬元，主要資本集中在100-1000萬規(guī)模的企業(yè)中，共259家。本省范圍內(nèi)，當前企業(yè)的注冊資本屬于一般。
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保山哪里能買到液氮
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什么是工業(yè)氣體?它有什么作用?
工業(yè)上有應用的氣體 氫、氧、氮氣、氬氣、乙炔、二氧化碳、六氟化硫、笑氣、以及其它混合氣體. 工業(yè)氣體廣泛應用于半導體、光纖、化工、電力、機械、光電、食品工業(yè)醫(yī)藥和科研領域. 有的是作保護氣氛使用,有的是作反應源,以及其它特殊用途.
工業(yè)燃氣和工業(yè)氣體有什么區(qū)別?
工業(yè)燃氣是工業(yè)上作為燃料用的氣體. 工業(yè)氣體是工業(yè)生產(chǎn)用的氣體,一般不作為燃料用.
常見有毒工業(yè)氣體有哪些
1、氯氣
氯氣，化學式為Cl?。常溫常壓下為黃綠色，有強烈刺激性氣味的劇毒氣體，具有窒息性 ，密度比空氣大，可溶于水和堿溶液，易溶于有機溶劑（如二硫化碳和四氯化碳），易壓縮，可液化為黃綠色的油狀液氯，是氯堿工業(yè)的主要產(chǎn)品之一，可用作為強氧化劑。
2、氨氣
氨氣，Ammonia， NH3，無色氣體。有強烈的刺激氣味。密度 0.7710。相對密度0.5971（空氣=1.00）。易被液化成無色的液體。在常溫下加壓即可使其液化（臨界溫度132.4℃，臨界壓力11.2兆帕，即112.2大氣壓）。沸點-33.5℃。也易被固化成雪狀固體。熔點-77.75℃。溶于水、乙醇和乙醚。
3、二氧化硫
二氧化硫（化學式SO2）是最常見、最簡單的硫氧化物。大氣主要污染物之一。火山爆發(fā)時會噴出該氣體，在許多工業(yè)過程中也會產(chǎn)生二氧化硫。由于煤和石油通常都含有硫元素，因此燃燒時會生成二氧化硫。當二氧化硫溶于水中，會形成亞硫酸。若把亞硫酸進一步在PM2.5存在的條件下氧化，便會迅速高效生成硫酸（酸雨的主要成分）。
4、苯
苯(Benzene, C6H6)一種碳氫化合物即最簡單的芳烴，在常溫下是甜味、可燃、有致癌毒性的無色透明液體，并帶有強烈的芳香氣味。它難溶于水，易溶于有機溶劑，本身也可作為有機溶劑。
5、硫化氫
硫化氫，分子式為H2S，分子量為34.076，標準狀況下是一種易燃的酸性氣體，無色，低濃度時有臭雞蛋氣味，濃度極低時便有臭味，有劇毒（LC50=444ppm<500ppm）。其水溶液為氫硫酸。分子量為34.08，蒸汽壓為2026.5kPa/25.5℃，閃點為<-50℃，熔點是-85.5℃，沸點是-60.4℃，相對密度為（空氣=1）1.19。能溶于水，易溶于醇類、石油溶劑和原油。燃點為292℃。
參考資料：搜狗百科-硫化氫
搜狗百科-苯
搜狗百科-二氧化硫
搜狗百科-氨氣
搜狗百科-氯氣
工業(yè)上常見的有毒氣體有哪些?
常見的有氯氣、氨氣、氮氧化物、光氣、氟化氫、二氧化硫、三氧化硫、氮氣、甲烷、乙烷、乙烯、一氧化碳、硝基苯的蒸氣、氰化氫、硫化氫等.
哪些企業(yè)用工業(yè)氣體
工業(yè)氣體
工業(yè)氣體 工業(yè)上，把常溫常壓下呈氣態(tài)的產(chǎn)品統(tǒng)稱為工業(yè)氣體產(chǎn)品。 氣體產(chǎn)品種類繁多，大致可以分為一般工業(yè)氣體和特種氣體兩大類。一般工業(yè)氣體產(chǎn)銷量大，但對純度要求不高。特種氣體產(chǎn)銷量雖小，但根據(jù)不同的用途，對不同特種氣體的純度或組成、有害雜質(zhì)允許的最高含量、產(chǎn)品的包裝貯運等都有極其嚴格的要求，屬于高技術，高附加值產(chǎn)品。通常，可以將特種氣體分為三類，即高純或超高純氣體、標準校正氣體和具有特定組成的混合氣體。氣體產(chǎn)品作為現(xiàn)代工業(yè)重要的基礎原料，應用范圍十分廣泛，在冶金、鋼鐵、石油、化工、機械、電子、玻璃、陶瓷、建材、建筑、食品加工、醫(yī)藥醫(yī)療等部門，均使用大量的常用氣體或特種氣體。 因為氣體產(chǎn)品的應用覆蓋面大，一般將氣體的生產(chǎn)和供應與供電、供水一樣，作為工業(yè)投資環(huán)境的基礎設施，被視為國民經(jīng)濟“命脈”而列為公用事業(yè)行業(yè)。 近年來，隨著我國國民經(jīng)濟的快速發(fā)展，氣體產(chǎn)品應用范圍不斷擴大，用量不斷增加，新產(chǎn)品不斷推出，純度不斷提高，市場需求不斷擴大，產(chǎn)值增長速度遠遠超過同期國民經(jīng)濟總值的增長速度，達到年12％的增長率。目前全國氣體產(chǎn)品市場年銷售額約為 400億元。雖然氣體工業(yè)總產(chǎn)值在國民經(jīng)濟生產(chǎn)總值中所占的比例不算大，但它對近年來飛速發(fā)展的微電子、航空航天、生物工程、新型材料、精密冶金、環(huán)境科學等高新技術部門有重要影響，是這些部門不可缺少的原材料氣或工藝氣。正是由于各種新興工業(yè)部門和現(xiàn)代科學技術的需要和推動，氣體工業(yè)產(chǎn)品才在品種，質(zhì)量和數(shù)量等方面取得令人矚目的飛躍發(fā)展。
多晶硅產(chǎn)業(yè)中會用到哪些工業(yè)氣體
1、硅烷（SiH4）：有毒。硅烷在半導體工業(yè)中主要用于制作高純多晶硅、通過氣相淀積制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質(zhì)或同質(zhì)硅外延生長原料、以及離子注入源和激光介質(zhì)等，還可用于制作太陽能電池、光導纖維和光電傳感器等。2、鍺烷（GeH4）：劇毒。金屬鍺是一種良好的半導體材料，鍺烷在電子工業(yè)中主要用于化學氣相淀積，形成各種不同的硅鍺合金用于電子元器件的制造。3、磷烷（PH3）：劇毒。主要用于硅烷外延的摻雜劑，磷擴散的雜質(zhì)源。同時也用于多晶硅化學氣相淀積、外延GaP材料、離子注入工藝、化合物半導體的MOCVD工藝、磷硅玻璃（PSG）鈍化膜制備等工藝中。4、砷烷（AsH3）：劇毒。主要用于外延和離子注入工藝中的n型摻雜劑。5、氫化銻（SbH3）：劇毒。用作制造n型硅半導體時的氣相摻雜劑。6、乙硼烷（B2H6）：窒息臭味的劇毒氣體。硼烷是氣態(tài)雜質(zhì)源、離子注入和硼摻雜氧化擴散的摻雜劑，它也曾作為高能燃料用于火箭和導彈的燃料。7、三氟化硼（BF3）：有毒，極強刺激性。主要用作P型摻雜劑、離子注入源和等離子刻蝕氣體。8、三氟化氮（NF3）：毒性較強。主要用于化學氣相淀積（CVD）裝置的清洗。三氟化氮可以單獨或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蝕刻，也用于NbSi2的蝕刻。9、三氟化磷（PF3）：毒性極強。作為氣態(tài)磷離子注入源。10、四氟化硅（SiF4）：遇水生成腐蝕性極強的氟硅酸。主要用于氮化硅（Si3N4）和硅化鉭（TaSi2）的等離子蝕刻、發(fā)光二極管P型摻雜、離子注入工藝、外延沉積擴散的硅源和光導纖維用高純石英玻璃的原料。11、五氟化磷（PF5）：在潮濕的空氣中產(chǎn)生有毒的氟化氫煙霧。用作氣態(tài)磷離子注入源。12、四氟化碳（CF4）：作為等離子蝕刻工藝中常用的工作氣體，是二氧化硅、氮化硅的等離子蝕刻劑。13、六氟乙烷（C2H6）：在等離子工藝中作為二氧化硅和磷硅玻璃的干蝕氣體。14、全氟丙烷（C3F8）：在等離子蝕刻工藝中，作為二氧化硅膜、磷硅玻璃膜的蝕刻氣體。