4G和8GU盤的打開速度是一樣的嗎?假如在網吧用,打開會不會很慢?
Lz 其實是一樣的,只是存儲量不同.
王老板以600元買進電腦桌增加0.22倍開價一段時間后無人買王老板就讓店員降價0.2倍請算算王老板是賠還是賺
600X0.22+600=售出價732元 732-732X0.2=降價后的價格585.6 所以王老板賠了
一塊近似平行四邊形的菜地,底是600米,高是底的2倍,一年共收獲1080噸白菜,平均每公頃収多少噸
1公頃=10000平方米 600*2*600=7200㎡=0.72公頃 1080÷0.72=1500噸
某工廠準備加工600個零件 在加工了100個零件后 采取了新技術 使每天的工作效率是原來2倍,結果共用7天完成任務,求該工廠原來每天加工多少個零件?
該工廠原來每天加工x個零件.則100/x+(600-100)/2x=7.200+500=14x14x=700x=50經檢驗 x=50 是原方程的解,且符合題意.答:該工廠原來每天加工50個零件請采納同學
一塊近似平行四邊形的菜地底600米高是底的2倍一年收獲1080噸白菜平均每公頃收多少噸白
600*2=1200米.高 600*1200=720000平方米. 720000平方米=72公頃 1080÷72=15噸.平均每公頃收15噸.
用600立方米的沙子配置三合土,配置的三合土的體積是沙的3倍.要鋪一條寬20米的路,要鋪10厘米厚,可以鋪多長?
沙子加上三合土總的體積是600+600*3=2400立方米 10厘米=0.1米 2400/(0.1*20)=1200米 可以鋪1200米
什么是光刻膠以及光刻膠的種類
光刻膠是一種有機化合物，它受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會發生變化。一般光刻膠以液態涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固態。 1、光刻膠的作用： a、將掩膜板上的圖形轉移到硅片表面的氧化層中； b、在后續工序中，保護下面的材料（刻蝕或離子注入）。2、光刻膠的物理特性參數： a、分辨率（resolution）。區別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關鍵尺寸（CD，Critical Dimension）來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好。 b、對比度（Contrast）。指光刻膠從曝光區到非曝光區過渡的陡度。對比度越好，形成圖形的側壁越陡峭，分辨率越好。 c、敏感度（Sensitivity）。光刻膠上產生一個良好的圖形所需一定波長光的最小能量值（或最小曝光量）。單位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光（DUV）、極深紫外光（EUV）等尤為重要。 d、粘滯性/黏度（Viscosity）。衡量光刻膠流動特性的參數。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的粘滯性會產生厚的光刻膠；越小的粘滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。光刻膠的比重（SG，Specific Gravity）是衡量光刻膠的密度的指標。它與光刻膠中的固體含量有關。較大的比重意味著光刻膠中含有更多的固體，粘滯性更高、流動性更差。粘度的單位：泊（poise），光刻膠一般用厘泊（cps，厘泊為1%泊）來度量。百分泊即厘泊為絕對粘滯率；運動粘滯率定義為：運動粘滯率=絕對粘滯率/比重。單位：百分斯托克斯（cs）＝cps/SG。 e、粘附性（Adherence）。表征光刻膠粘著于襯底的強度。光刻膠的粘附性不足會導致硅片表面的圖形變形。光刻膠的粘附性必須經受住后續工藝（刻蝕、離子注入等）。 f、抗蝕性（Anti-etching）。光刻膠必須保持它的粘附性，在后續的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。 g、表面張力（Surface Tension）。液體中將表面分子拉向液體主體內的分子間吸引力。光刻膠應該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。 h、存儲和傳送（Storage and Transmission）。能量（光和熱）可以激活光刻膠。應該存儲在密閉、低溫、不透光的盒中。同時必須規定光刻膠的閑置期限和存貯溫度環境。一旦超過存儲時間或較高的溫度范圍，負膠會發生交聯，正膠會發生感光延遲。3、光刻膠的分類 a、根據光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類：負性光刻膠和正性光刻膠。 負性光刻膠（Negative Photo Resist）。最早使用，一直到20世紀70年代。曝光區域發生交聯，難溶于顯影液。特性：良好的粘附能力、良好的阻擋作用、感光速度快；顯影時發生變形和膨脹。所以只能用于2μm的分辨率。 正性光刻膠（Positive Photo Resist）。20世紀70年代，有負性轉用正性。正性光刻膠的曝光區域更加容易溶解于顯影液。特性：分辨率高、臺階覆蓋好、對比度好；粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。 b、根據光刻膠能形成圖形的最小光刻尺寸來分：傳統光刻膠和化學放大光刻膠。 傳統光刻膠。適用于I線（365nm）、H線（405nm）和G線（436nm），關鍵尺寸在0.35μm及其以上。 化學放大光刻膠（CAR，Chemical Amplified Resist）。適用于深紫外線（DUV）波長的光刻膠。KrF（248nm）和ArF（193nm）。4、光刻膠的具體性質 a、傳統光刻膠：正膠和負膠。光刻膠的組成：樹脂（resin/polymer），光刻膠中不同材料的粘合劑，給與光刻膠的機械與化學性質（如粘附性、膠膜厚度、熱穩定性等）；感光劑，感光劑對光能發生光化學反應；溶劑（Solvent），保持光刻膠的液體狀態，使之具有良好的流動性；添加劑（Additive），用以改變光刻膠的某些特性，如改善光刻膠發生反射而添加染色劑等。 負性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯，一種天然的橡膠；溶劑是二甲苯；感光劑是一種經過曝光后釋放出氮氣的光敏劑，產生的自由基在橡膠分子間形成交聯。從而變得不溶于顯影液。負性光刻膠在曝光區由溶劑引起泡漲；曝光時光刻膠容易與氮氣反應而抑制交聯。 正性光刻膠。樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性，當沒有溶解抑制劑存在時，線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中；感光劑是光敏化合物（PAC，Photo Active Compound），最常見的是重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ是一種強烈的溶解抑制劑，降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻膠中化學分解，成為溶解度增強劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率。 b、化學放大光刻膠（CAR，Chemical Amplified Resist）。樹脂是具有化學基團保護（t-BOC）的聚乙烯（PHS）。有保護團的樹脂不溶于水；感光劑是光酸產生劑（PAG，Photo Acid Generator），光刻膠曝光后，在曝光區的PAG發生光化學反應會產生一種酸。該酸在曝光后熱烘（PEB，Post Exposure Baking）時，作為化學催化劑將樹脂上的保護基團移走，從而使曝光區域的光刻膠由原來不溶于水轉變為高度溶于以水為主要成分的顯影液。化學放大光刻膠曝光速度非常
工資如何核算才正確？
目前針對固定月薪制工資計算方法大致有以下三種方法：
A：(固定月薪/應出勤天數)*實際出勤天數+固定月薪/20.92/8*1.5*平時加班工時+固定月薪/20.92/8*2*周末加班工時；
B：(固定月薪-固定月薪/20.92*缺勤天數)+固定月薪/20.92/8*1.5*平時加班工時+固定月薪/20.92/8*2*周末加班工時；
C：固定月薪/20.92*實際出勤天數+固定月薪/20.92/8*1.5*平時加班工時+固定月薪/20.92/8*2*周末加班工時；
按照A方法：其工資為：600/23*19+600/20.92/8*1.5*21=608.58
按照B方法：其工資為：600-600/20.92*4+600/20.92/8*1.5*21=598.21
按照C方法：其工資為：600/20.92*19+600/20.92/8*1.5*21=657.86
可以看出同樣的一個案例如果采取不同的薪資計算方法其工資金額相關很大。
某工廠準備加工600個零件,在加工了300個零件后,采取了新技術,使每天的工作效率是原來的3倍,結果提前2天
設原來每天x個.600÷x=300÷x+300÷3x+2600/x=400/x+2200/x=2 x=100 有不明白的地方再問喲,祝你學習進步,更上一層樓! (*^__^*)
固態硬盤速度很慢,但明明是才換的
你的主板是SATA2.0接口,最大傳輸速率只有150MB/秒,如果你更換支持SATA3.0接口的主板就會改善了,目前3.0接口可以達到600MB/秒,速度相差四倍.