鍍膜靶材材料成分
鍍膜靶材材料成分分2種：
1. 金屬靶材：
1. 金屬靶材：
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
誰能幫我解釋一下,靶的分類及區(qū)別、用途?像多弧靶、孿生靶、圓柱靶等等.
濺射靶材有:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材 ,硅化物陶瓷濺射靶材 ,硫化物陶瓷濺射靶材 ,碲化物陶瓷濺射靶材 ,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),砷化鉛靶材(PbAs),砷化銦靶材(InAs). 謝謝~
什么叫靶材?電容觸摸屏的靶材主要是什么?
電容觸摸屏用的鍍膜基板是用磁控濺射工藝制造的. 在磁控濺射制程中用到的鍍膜材料稱為靶材. 用作電容觸摸屏的靶材一般有:InSn,Si,Ag,Al,Mo等
靶材的制作工藝
磁控濺射靶材
1）磁控濺射原理：
在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還可進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。
2）磁控濺射靶材種類：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 ，硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO），磷化銦靶材（InP），砷化鉛靶材（PbAs），砷化銦靶材（InAs）。
濺射靶材的介紹
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等.磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜.這種被鍍的材料就叫濺射靶材. 濺射靶材有金屬,合金,陶瓷,硼化物等.
靶材參加什么樣的展會好推廣自己的產品呢？
【靶材的定義】
靶材的定義：
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。中國最專業(yè)的展會平臺——808街。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜…鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
【靶材的種類】
靶材的種類：
1： 金屬靶材
2：陶瓷靶材
3：合金靶材
【磁控濺射靶材種類】：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 。
硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
【靶材的發(fā)展】
各種類型 的濺射薄膜材料 在半導體集成 電路 (VLSI ) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀 90年代 以來，濺 射靶材及濺射技術的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發(fā)展的需求。
【靶材的制作工藝】
磁控濺射靶材
1：1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，中國最專業(yè)的展會、會議、活動發(fā)布平臺——808街。在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
【應用領域】
1：微電子領域
2：平面顯示器用靶材
3：存儲技術用靶材
所以靶材其實就是新興的產業(yè)，那么參加的展會應該就是什么科學展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展這樣之類的，也可以是什么材料機械展 之類的。
你也可以在不是很確定參加什么會展的時候，就可以再問一下展會的前期工作人員哦。
以上內容由808街負責整理并發(fā)布。
靶材 濺射靶材區(qū)別
靶材有電弧靶材、濺射靶材、蒸鍍靶材….
不知您對靶材行業(yè)了解不,行業(yè)情況、據(jù)說國內靶材不行工藝難點在哪里呢>?謝謝啦.
我就對鈦靶材談談我的看法.鈦在國內現(xiàn)在的工藝已經很成熟.就比如一個很小的公司10個人的公司就可以加工制作不是很難.至于工藝難點,對內行人沒什么,如果說有難點,主要是在質量上,這是應為要打價格戰(zhàn)的后果.國內靶材不行也在這,主要是在原材料上,用了好的原料大公司成本就比小公司高的多,沒辦法和小公司競爭,要是不用好原料,小公司就比不上大公司,造成的后果就是惡性循環(huán).這個就是造成國內靶材不行的真正原因.這個行業(yè)現(xiàn)在的狀況是你做你的.我做我的只要有點利潤就可以.這個就是我的個人看法,希望可以幫到你
物理氣象沉積做黑色的靶材有哪些
黑色的挺多的,ITO是黑色的,石墨、硼、等都是i黑色的,我上次在北京研諾信誠買過一個石墨靶
迷茫 靶材這個行業(yè)有前途嗎
當然有前途,薄膜行業(yè)雖然已經發(fā)展很多年了.目前國內做做靶材的公司很多了;但是真正能做到國際領先的還比較少,比如ITO靶材,與國外一直有差距!需要從提高靶材質量上下功夫,高質量的靶材還是很有前景的!新材料不斷發(fā)展,必然帶動靶材行業(yè)發(fā)展,突出在靶材種類上!北京匯方圓靶材一直關注國際新材料動向;靶材品種一時俱進,目前自身開發(fā)的靶材種類已經有500多種!比如:CIGS靶材,CZSS靶材,GeSbTe靶材,LaxBa(1-x)CoO3靶材,YbMnO靶材……當然大部分屬于實驗階段,都是一些實驗室再用,但不排除將來某一類,或幾種產業(yè)化!