濺射靶材的市場競爭狀況如何?
濺射靶材的市場現在基本已經飽和,使用靶材的廠家對已經使用的靶材在技術經驗形成規范和慣例經驗,別的廠家靶材要想進入,除非使用靶材的廠家愿意承擔實驗的費用和風險,沒有使用過的新產品會尋求新供應商.
迷茫 靶材這個行業有前途嗎
當然有前途,薄膜行業雖然已經發展很多年了.目前國內做做靶材的公司很多了;但是真正能做到國際領先的還比較少,比如ITO靶材,與國外一直有差距!需要從提高靶材質量上下功夫,高質量的靶材還是很有前景的!新材料不斷發展,必然帶動靶材行業發展,突出在靶材種類上!北京匯方圓靶材一直關注國際新材料動向;靶材品種一時俱進,目前自身開發的靶材種類已經有500多種!比如:CIGS靶材,CZSS靶材,GeSbTe靶材,LaxBa(1-x)CoO3靶材,YbMnO靶材……當然大部分屬于實驗階段,都是一些實驗室再用,但不排除將來某一類,或幾種產業化!
現在市場廢ITO靶材價格是多少
1700左右.
太陽能薄膜電池的靶材原料技術問題
1.現在又兩種方法來生產靶材,一是噴涂法,二是燒結法 ZnO和Al為原料是制備太陽能電池前電極所需的TCO玻璃所用的靶材,常規摻鋁量有1%,1.5% 和2% 2.現在國內的靶材,最主要的缺陷大概就是綁定靶材的燒結質量問題,在進行高溫濺射時會發生靶材的裂開,及外層靶材與靶管脫落.使得綁定材料氧化銦污染真空腔體. 3,這就不曉得了!
目前國內有沒有生產高端ITO靶材的廠家
ITO靶材制造商高端還是在國外,日本的Tosoh,美國的優美科,德國的也很多.國內感覺都是中低端的,行內較好的廣州尤特、深圳歐萊,安泰科技,阿石創等.
鍍膜靶材材料成分
鍍膜靶材材料成分分2種：
1. 金屬靶材：
1. 金屬靶材：
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
不知您對靶材行業了解不,行業情況、據說國內靶材不行工藝難點在哪里呢>?謝謝啦.
我就對鈦靶材談談我的看法.鈦在國內現在的工藝已經很成熟.就比如一個很小的公司10個人的公司就可以加工制作不是很難.至于工藝難點,對內行人沒什么,如果說有難點,主要是在質量上,這是應為要打價格戰的后果.國內靶材不行也在這,主要是在原材料上,用了好的原料大公司成本就比小公司高的多,沒辦法和小公司競爭,要是不用好原料,小公司就比不上大公司,造成的后果就是惡性循環.這個就是造成國內靶材不行的真正原因.這個行業現在的狀況是你做你的.我做我的只要有點利潤就可以.這個就是我的個人看法,希望可以幫到你
靶材純度2N5什么意思啊?
很簡單,N就表是9,2N5就是99.5%. 靶材行業有個網站:新靶網 可以看看
靶材參加什么樣的展會好推廣自己的產品呢？
【靶材的定義】
靶材的定義：
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。中國最專業的展會平臺——808街。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜…鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
【靶材的種類】
靶材的種類：
1： 金屬靶材
2：陶瓷靶材
3：合金靶材
【磁控濺射靶材種類】：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 。
硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
【靶材的發展】
各種類型 的濺射薄膜材料 在半導體集成 電路 (VLSI ) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀 90年代 以來，濺 射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發展的需求。
【靶材的制作工藝】
磁控濺射靶材
1：1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，中國最專業的展會、會議、活動發布平臺——808街。在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
【應用領域】
1：微電子領域
2：平面顯示器用靶材
3：存儲技術用靶材
所以靶材其實就是新興的產業，那么參加的展會應該就是什么科學展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展這樣之類的，也可以是什么材料機械展 之類的。
你也可以在不是很確定參加什么會展的時候，就可以再問一下展會的前期工作人員哦。
以上內容由808街負責整理并發布。
靶材的作用和用途?
靶材就是目標材料.用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應.用于物理鍍膜中的濺鍍,主要有金屬靶材和陶瓷靶材.不知道你想問的是哪個領域使用的.