濺射靶材的市場競爭狀況如何?
濺射靶材的市場現(xiàn)在基本已經(jīng)飽和,使用靶材的廠家對已經(jīng)使用的靶材在技術(shù)經(jīng)驗形成規(guī)范和慣例經(jīng)驗,別的廠家靶材要想進入,除非使用靶材的廠家愿意承擔實驗的費用和風險,沒有使用過的新產(chǎn)品會尋求新供應商.
迷茫 靶材這個行業(yè)有前途嗎
當然有前途,薄膜行業(yè)雖然已經(jīng)發(fā)展很多年了.目前國內(nèi)做做靶材的公司很多了;但是真正能做到國際領先的還比較少,比如ITO靶材,與國外一直有差距!需要從提高靶材質(zhì)量上下功夫,高質(zhì)量的靶材還是很有前景的!新材料不斷發(fā)展,必然帶動靶材行業(yè)發(fā)展,突出在靶材種類上!北京匯方圓靶材一直關(guān)注國際新材料動向;靶材品種一時俱進,目前自身開發(fā)的靶材種類已經(jīng)有500多種!比如:CIGS靶材,CZSS靶材,GeSbTe靶材,LaxBa(1-x)CoO3靶材,YbMnO靶材……當然大部分屬于實驗階段,都是一些實驗室再用,但不排除將來某一類,或幾種產(chǎn)業(yè)化!
現(xiàn)在市場廢ITO靶材價格是多少
1700左右.
太陽能薄膜電池的靶材原料技術(shù)問題
1.現(xiàn)在又兩種方法來生產(chǎn)靶材,一是噴涂法,二是燒結(jié)法 ZnO和Al為原料是制備太陽能電池前電極所需的TCO玻璃所用的靶材,常規(guī)摻鋁量有1%,1.5% 和2% 2.現(xiàn)在國內(nèi)的靶材,最主要的缺陷大概就是綁定靶材的燒結(jié)質(zhì)量問題,在進行高溫濺射時會發(fā)生靶材的裂開,及外層靶材與靶管脫落.使得綁定材料氧化銦污染真空腔體. 3,這就不曉得了!
目前國內(nèi)有沒有生產(chǎn)高端ITO靶材的廠家
ITO靶材制造商高端還是在國外,日本的Tosoh,美國的優(yōu)美科,德國的也很多.國內(nèi)感覺都是中低端的,行內(nèi)較好的廣州尤特、深圳歐萊,安泰科技,阿石創(chuàng)等.
鍍膜靶材材料成分
鍍膜靶材材料成分分2種：
1. 金屬靶材：
1. 金屬靶材：
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
不知您對靶材行業(yè)了解不,行業(yè)情況、據(jù)說國內(nèi)靶材不行工藝難點在哪里呢>?謝謝啦.
我就對鈦靶材談談我的看法.鈦在國內(nèi)現(xiàn)在的工藝已經(jīng)很成熟.就比如一個很小的公司10個人的公司就可以加工制作不是很難.至于工藝難點,對內(nèi)行人沒什么,如果說有難點,主要是在質(zhì)量上,這是應為要打價格戰(zhàn)的后果.國內(nèi)靶材不行也在這,主要是在原材料上,用了好的原料大公司成本就比小公司高的多,沒辦法和小公司競爭,要是不用好原料,小公司就比不上大公司,造成的后果就是惡性循環(huán).這個就是造成國內(nèi)靶材不行的真正原因.這個行業(yè)現(xiàn)在的狀況是你做你的.我做我的只要有點利潤就可以.這個就是我的個人看法,希望可以幫到你
靶材純度2N5什么意思啊?
很簡單,N就表是9,2N5就是99.5%. 靶材行業(yè)有個網(wǎng)站:新靶網(wǎng) 可以看看
靶材參加什么樣的展會好推廣自己的產(chǎn)品呢？
【靶材的定義】
靶材的定義：
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應。中國最專業(yè)的展會平臺——808街。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜…鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
【靶材的種類】
靶材的種類：
1： 金屬靶材
2：陶瓷靶材
3：合金靶材
【磁控濺射靶材種類】：
金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 。
硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
【靶材的發(fā)展】
各種類型 的濺射薄膜材料 在半導體集成 電路 (VLSI ) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等 方面都得到了廣泛的應用。20世紀 90年代 以來，濺 射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新 型電子元器件發(fā)展的需求。
【靶材的制作工藝】
磁控濺射靶材
1：1）磁控濺射原理：在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，中國最專業(yè)的展會、會議、活動發(fā)布平臺——808街。在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
磁控濺射一般分為二種：支流濺射和射頻濺射，其中支流濺射設備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。
若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
【應用領域】
1：微電子領域
2：平面顯示器用靶材
3：存儲技術(shù)用靶材
所以靶材其實就是新興的產(chǎn)業(yè)，那么參加的展會應該就是什么科學展啊，什么新能源展，什么稀有材料展啊，什么化工展這樣之類的，也可以是什么材料機械展 之類的。
你也可以在不是很確定參加什么會展的時候，就可以再問一下展會的前期工作人員哦。
以上內(nèi)容由808街負責整理并發(fā)布。
靶材的作用和用途?
靶材就是目標材料.用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應.用于物理鍍膜中的濺鍍,主要有金屬靶材和陶瓷靶材.不知道你想問的是哪個領域使用的.